X射线荧光就是被分析样品在X射线照射下发出的X射线，它包含了被分析样品化学组成的信息，通过对X射线荧光的分析确定被测样品中各组分含量的仪器就是X射线荧光分析仪。由原子物理学的知识，对每一种化学元素的原子来说，都有其特定的能级结构，其核外电子都以其特有的能量在各自的固定轨道上运行。内层电子在足够能量的X射线照射下脱离原子的束缚，成为自由电子，这时原子被激发了，处于激发态。此时，其他的外层电子便会填补这一空位，即所谓的跃迁，同时以发出X射线的形式放出能量。
X射线荧光镀层厚度分析仪基本原理
由于每一种元素的原子能级结构都是特定的，它被激发后跃迁时放出的X射线的能量也是特定的，称之为特征X射线。通过测定特征X射线的能量，便可以确定相应元素的存在，而特征X射线的强弱（或者说X射线光子的多少）则代表该元素的含量。
镀层厚度分析仪根据测量原理一般有以下五种类型:
1.磁性测厚法
适用导磁材料上的非导磁层厚度测量。导磁材料一般为：钢、铁、银、镍。此种方法测量高。
2.涡流测厚法
适用导电金属上的非导电层厚度测量。此种方法较磁性测厚法低。
3.超声波测厚法
目前国内还没有用此种方法测量涂镀层厚度的，国外个别厂家有这样的仪器，适用多层涂镀层厚度的测量或则是以上两种方法都无法测量的场合。但一般价格昂贵，测量也不高。
4.电解测厚法
此方法有别于以上三种，不属于无损检测，需要破坏涂镀层。一般也不高。测量起来较其他几种麻烦。
5.放射测厚法
此种仪器价格昂贵，适用于一些特殊场合。
常规镀层厚度分析仪的原理
对材料表面保护、装饰形成的覆盖层，如涂层、镀层、敷层、贴层、化学生成膜等，在有关国家和国际标准中称为覆层（coating）。覆层厚度测量已成为加工工业、表面工程质量检测的重要一环，是产品达到优等质量标准的必备手段。为使产品国际化，我国出口商品和涉外项目中，对覆层厚度有了明确的要求。
覆层厚度的测量方法主要有：楔切法，光截法，电解法，厚度差测量法，称重法，X射线荧光法，β射线反向散射法，电容法、磁性测量法及涡流测量法等。
这些方法中前五种是有损检测，测量手段繁琐，速度慢，多适用于抽样检验。X射线和β射线法是无接触无损测量，但装置复杂昂贵，测量范围较小。因有放射源，使用者必须遵守射线防护规范。X射线法可测极薄镀层、双镀层、合金镀层。β射线法适合镀层和底材原子序号大于3的镀层测量。电容法仅在薄导电体的绝缘覆层测厚时采用。
随着技术的日益进步，特别是近年来引入微机技术后，采用磁性法和涡流法的测厚仪向微型、智能、多功能、高、实用化的方向进了一步。测量的分辨率已达0.1微米，可达到1%，有了大幅度的提高。它适用范围广，量程宽、操作简便且价廉，是工业和科研使用广泛的测厚仪器。采用无损方法既不破坏覆层也不破坏基材，检测速度快，能使大量的检测工作经济地进行。
镀层厚度分析仪使用注意事项
1．仪器供电电压必须与仪器铭牌上的电压一致。仪器必须使用三线插头连到一个已接地的插座上。
2．镀层厚度分析仪为精密仪器，建议配备高的稳压电源。计算机和仪器应配备不间断电源（UPS）。
3．镀层厚度分析仪应特别注意与存在电磁的场合隔离开来。
4．仪器适合在10~40℃（50~104℉）的环境温度下操作使用，在0~50℃（32~122℉）的温度下存放。操作和存放的允许湿度范围在0~65%之间（非冷凝）。在操作过程中，环境温度和湿度应保持恒定。
5．仪器曝晒在阳光下时温度极易超过50℃。所以请不要在这样的环境下操作和存放仪器，以避免高温对仪器造成损害。
6．为避免短路，严禁仪器与液体直接接触。如果液体进入仪器，请立刻关闭仪器并在重新使用前请技术人员全面检查仪器。
7．镀层厚度分析仪不能用于酸性环境和易爆场合。
8．不要弄脏和刮擦元素片或调校标准片，否则会造成读数错误。
9．不要用任何机械或化学的方法清除元素片或调校标准片上的污物。如果必要的话，可以用一块不起毛的布轻轻擦除脏物。
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